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崗位職責：
1.負責主導電子束（EBL）光刻工藝的全流程搭建、現有工藝的優化及先進工藝的開發及工藝整合。
2.負責電子束曝光/光刻單項工藝如勻膠、曝光、顯影、量測分析，確定單項工藝窗口，完成全套工藝參數/流程文件確定和編寫。
3.負責完成基礎的電子束光刻圖形版圖設計和繪制。
4.根據晶圓量測、測試參數判斷設備狀態，并給出設備維護及優化建議。
5.負責相關技術文檔的撰寫、整理歸檔。
6.負責對產品性能異常進行分析和抒寫對應的報告。
7.完成領導安排的其他任務。
任職要求：
1.博士及以上學歷，微電子，電子科學與技術，半導體技術或半導體相關專業。
2.具備電子束光刻機研發經驗，有電子束（EBL）光刻機以及SEM等電子束曝光/曝光相關設備使用、維護、開發經驗者優先。
3.熟練使用晶圓檢測測量設備（如CDSEM），熟練掌握電子束設備圖形編寫軟件，熟悉常用數據處理方法。
4.熟悉半導體行業流程與規范，熟悉半導體晶圓制造、工藝流程、工藝技術和前沿科技的更新。
5. 具備良好的英文聽說讀寫能力，能獨立承擔研發任務。
6.具備較強的學習能力、邏輯思維能力、問題解決能力、溝通協作能力。